射频RPS
独创的远程等离子体源,基于高频低损耗磁芯设计,腔体通过特殊的材料设计显著减少氧、氢和氮原子气体的损失。系统结构设计紧凑,射频功率可达10kW ,可根据具体应用进行相关匹配设计。可提供提供高达 10 slm 的氧自由基,真实功率精度为 <1%。具备EtherCAT、232/485等相关远程控制接口。
参数名称 | 技术要求 |
工作频率 | 350kHz~450KHz |
输出功率 | 100W-10000W |
适用气体 | O2, N2, Ar,NF3 等等 |
运行气压范围 | 0.3-10 Torr |
气体流量范围 | ≤10slm |
电源输入 | AC208V,47-60HZ, 38A 三相 |
冷却方式 | 循环水冷 |
保护 | 过电流、过温度、过功率 |
控制接口 | EtherCAT、RS232/RS485、AD |
阻抗匹配方式 | 调频匹配 |
应用 | CVD Chamber Cleaning、Surface Treatment and PE-CVD |
应用材料 | SiO2, BPSG ,SiON ,Si3N4, SiNx,P-TEOS,ACL type etc. |
外形尺寸 | RPS系统:440*245*270mm |