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产品详情

射频RPS

独创的远程等离子体源,基于高频低损耗磁芯设计,腔体通过特殊的材料设计显著减少氧、氢和氮原子气体的损失。系统结构设计紧凑,射频功率可达10kW ,可根据具体应用进行相关匹配设计。可提供提供高达 10 slm 的氧自由基,真实功率精度为 <1%。具备EtherCAT、232/485等相关远程控制接口。



参数名称

技术要求

工作频率

350kHz~450KHz

输出功率

100W-10000W

适用气体

O2, N2, Ar,NF3 等等

运行气压范围

0.3-10 Torr

气体流量范围

≤10slm

电源输入

AC208V,47-60HZ, 38A 三相

冷却方式

循环水冷

保护

过电流、过温度、过功率

控制接口

EtherCAT、RS232/RS485、AD

阻抗匹配方式

调频匹配

应用

CVD Chamber Cleaning、Surface Treatment and PE-CVD

应用材料

SiO2, BPSG ,SiON ,Si3N4, SiNx,P-TEOS,ACL type etc.

外形尺寸

RPS系统:440*245*270mm



射频RPS
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