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產品詳情

應用領域:離子束刻蝕,離子束濺射,離子束輔助鍍膜

產品特點:完善的射頻和離子源控製系統;快速達到放電穩定狀態(10s以內);中和器快速穩定(3s以內);方便角度調解;優化的放電均勻性;法蘭安裝方便。


離子源本體
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