18610611799
产品详情
应用领域：
离子束刻蚀，离子束溅射，离子束辅助镀膜
产品特点：
完善的射频和离子源控制系统；快速达到放电稳定状态（10s以内）；中和器快速稳定（3s以内）；方便角度调解；优化的放电均匀性；法兰安装方便。
复制产品链接
长按图片保存/分享
应用领域：
离子束刻蚀，离子束溅射，离子束辅助镀膜
产品特点：
完善的射频和离子源控制系统；快速达到放电稳定状态（10s以内）；中和器快速稳定（3s以内）；方便角度调解；优化的放电均匀性；法兰安装方便。
复制产品链接
长按图片保存/分享
