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產品詳情
遠程等離子體源（Remote Plasma Source，RPS）
是一種用於產生等離子體的裝置，通常被用於在真空環境中進行表面處理、材料改性、薄膜沉積等工藝，以及半導體刻蝕和薄膜設備的預處理反應和清洗等。與傳統等離子體源不同的是，RPS通常不直接接觸要處理的表面，而是在一定距離之外產生等離子體，並將等離子體輸送到目標表面，因此被稱為“遠程等離子體源”。
應用特征
采用新的固態微波源技術【非磁控管微波源】。具有很高的頻率、功率穩定性，使用壽命長。
自主開發的微波匹配器，能實現在不同氣體條件下，快速進行微波源與等離子體的阻抗匹配。
等離子體發生器材質可選，適用於多種氣體。
體積小、集成度高、便於更換。低顆粒汙染;
獨特的等離子反應腔設計，適用於多種氣體的電離與阻抗匹配。
系統運行時，氣體壓力適應範圍寬。氣體電離率高、電離速度快。
工作頻率 | 2450MHz±500KHz | ||
微波功率範圍 | 100W-3000W | ||
功率穩定度 | ≤±1% @500W-3000W | ||
適用氣體 | O2, N2, H2O, Ar, He, H2, 等 | ||
運行氣壓範圍 | 0.06-20 Torr | ||
氣體流量範圍 | 0.1-10 slm | ||
電源輸入 | AC208V，47-60HZ, 35A 三相4線（固態功放） | ||
冷卻方式 | 循環水冷 | ||
控製接口 | DB25/DB89/觸摸屏 | ||
通信模式 | 默認RS-232通信 | ||
等離子輸出口 | ISO-KF40 | ||
阻抗匹配方式 | 自動匹配+手動操作；HOLD模式和PRESET模式 | ||
阻抗匹配時間 | < 2秒 | ||
外形尺寸 | RPS系統:544*474.91*622.2mm | ||
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