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產品詳情
微波RPS系統是一套集成的等離子體源生成系統。它由微波自動匹配器組件、等離子發生器以及微波電源組成。
遠程等離子體源，是一種用於產生等離子體的裝置，通常被用於在真空環境中進行表面處理、材料改性、以及半導體刻蝕和薄膜設備的預處理反應和清洗等。
應用特征
1.產品自主研發，能實現在不同氣體條件下，快速進行微波源與等離子體的阻抗匹配。
2.等離子體發生器材質可選，適用於多種氣體。
3.體積小、集成度高、便於更換。低顆粒汙染。功率輸出穩定，頻率集中度高，使用壽命長。
4.系統運行時，氣體壓力適應範圍寬。氣體電離率高、電離速度快。
工作頻率 | 2450MHz±500KHz | ||
微波功率範圍 | 150W-3000W | ||
功率穩定度 | ≤±1% @500W-3000W | ||
適用氣體 | O2, N2, H2O, Ar, He, H2, 等 | ||
運行氣壓範圍 | 0.06-20 Torr | ||
氣體流量範圍 | 0.1-10 slm | ||
電源輸入 | AC208V，45-60HZ, 35A 三相4線（固態功放） | ||
冷卻方式 | 循環水冷 | ||
控製接口 | DB25/DB89/觸摸屏 | ||
通信模式 | 默認RS-485通信 | ||
等離子輸出口 | ISO-KF40 | ||
阻抗匹配方式 | 自動匹配+手動操作；HOLD模式和PRESET模式 | ||
阻抗匹配時間 | < 2秒 | ||
功率匹配範圍 | 500W-3000W | ||
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