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產品詳情
遠程等離子體源（MiNi Remote Plasma Source，Mini RPS）
MINI RPS是一種產生等離子體的裝置，它由反應腔體、射頻電源組成。其工作原理是將特定氣體在適當功率射頻的轟擊下，進行電離，生成高能量的等離子體。這種裝置被廣泛應用於冶金、化工、電子等領域。
應用特征
可應用於等離子體清洗、濺射鍍膜、PECVD、刻蝕、醫療美容等領域。
具有以下特點：
1) 高的可靠性和穩定性
2) 大屏液晶顯示，操作更加直觀
3) 高功率輸出
4) 緊湊的結構設計，體積小、重量輕
5) 完善的保護功能：過壓、過流、過溫、反射功率保護
6) 完備的附加功能：脈衝調製、主從模式等
輸出頻率 | 1.75MHz~2.15MHz | ||
輸出功率 | 5-300W | ||
輸出模式 | 連續波 | ||
輸出阻抗 | 50Ώ等 | ||
頻率穩定性 | ±1% | ||
諧波 | 小於-40dB | ||
雜散波 | 小於-50dB | ||
功率重複性 | ±0.5% | ||
駐波比 | >3.0 | ||
工作溫度 | 5℃-40℃ | ||
存儲溫度 | -25℃-55℃ | ||
阻抗匹配方式 | 自動匹配+手動操作；HOLD模式和PRESET模式 | ||
阻抗匹配時間 | < 2秒 | ||
外形尺寸 | 544*474.91*622.2mm | ||
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