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远程等离子体源(Remote Plasma Source,RPS)


是一种用于产生等离子体的装置,通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺,以及半导体刻蚀和薄膜设备的预处理反应和清洗等。与传统等离子体源不同的是,RPS通常不直接接触要处理的表面,而是在一定距离之外产生等离子体,并将等离子体输送到目标表面,因此被称为“远程等离子体源”。


应用特征

采用新的固态微波源技术【非磁控管微波源】。具有很高的频率、功率稳定性,使用寿命长。

自主开发的微波匹配器,能实现在不同气体条件下,快速进行微波源与等离子体的阻抗匹配。

等离子体发生器材质可选,适用于多种气体。

体积小、集成度高、便于更换。低颗粒污染;

独特的等离子反应腔设计,适用于多种气体的电离与阻抗匹配。

系统运行时,气体压力适应范围宽。气体电离率高、电离速度快。



工作频率

 2450MHz±500KHz

微波功率范围

100W-3000W

功率稳定度

≤±1% @500W-3000W

适用气体

O2, N2, H2O, Ar, He, H2, 等

运行气压范围

0.06-20 Torr

气体流量范围

0.1-10 slm

电源输入

AC208V,47-60HZ, 35A 三相4线(固态功放)

冷却方式

循环水冷

控制接口

DB25/DB89/触摸屏

通信模式

默认RS-232通信

等离子输出口

ISO-KF40

阻抗匹配方式

自动匹配+手动操作;HOLD模式和PRESET模式

阻抗匹配时间

< 2秒

外形尺寸

RPS系统:544*474.91*622.2mm


远程等离子体源
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