远程等离子体源(MiNi Remote Plasma Source,Mini RPS)
MINI RPS是一种产生等离子体的装置,它由反应腔体、射频电源组成。其工作原理是将特定气体在适当功率射频的轰击下,进行电离,生成高能量的等离子体。这种装置被广泛应用于冶金、化工、电子等领域。
应用特征
可应用于等离子体清洗、溅射镀膜、PECVD、刻蚀、医疗美容等领域。
具有以下特点:
1) 高的可靠性和稳定性
2) 大屏液晶显示,操作更加直观
3) 高功率输出
4) 紧凑的结构设计,体积小、重量轻
5) 完善的保护功能:过压、过流、过温、反射功率保护
6) 完备的附加功能:脉冲调制、主从模式等
输出频率 | 1.75MHz~2.15MHz | ||
输出功率 | 5-300W | ||
输出模式 | 连续波 | ||
输出阻抗 | 50Ώ等 | ||
频率稳定性 | ±1% | ||
谐波 | 小于-40dB | ||
杂散波 | 小于-50dB | ||
功率重复性 | ±0.5% | ||
驻波比 | >3.0 | ||
工作温度 | 5℃-40℃ | ||
存储温度 | -25℃-55℃ | ||
阻抗匹配方式 | 自动匹配+手动操作;HOLD模式和PRESET模式 | ||
阻抗匹配时间 | < 2秒 | ||
外形尺寸 | 544*474.91*622.2mm |